适用行业：半导体（Semi -Conductor）、化学机械抛光CMP（Chemical-Mechanical Planarization）
适用系列：PX-D / PX-D-N / PI-Z-D / PI-X-D / PI-Z-D-F / PI-X-D-F / PS / PS-F / PS-K / PW-F / PW-K / PWH-F / PWE-F
适用液体：硫酸（H₂SO₄）Sulfuric Acid、过氧化氢溶液（H₂O₂俗称双氧水）Hydrogen Peroxide、硫酸铜（CuSO4用于电镀和杀菌）Copper Sulphate、氢氧化钠（NaOH也称烧碱、火碱、片碱、苛性钠）Caustic Soda、过硫酸钠（Na2S2O8又称过二硫酸钠、高硫酸钠）Sodium Persulfate、高锰酸钾（KMnO4）Potassium Permanganate等。